用鹽溶劑處理溶體 主要的是減少氧化物和非金屬內(nèi)含物的含量,。溶劑或溶劑的混合物以片狀或顆粒的形式浸入到溶體中并慢慢溶解。細(xì)?；蚍勰⒃谌垠w的表面并溶解,。他們可能通過葉輪機(jī)械地?cái)嚢柽M(jìn)熔體中或手動(dòng)攪拌進(jìn)去。以類似的方式也可以引進(jìn)顆粒,、低共熔硅的調(diào)節(jié)劑以及 初的成核的硅到溶體中,。選擇的熔劑的組成是為了適合要達(dá)到的目的，無論需要清理或是改變微觀結(jié)構(gòu),；在任何情況下，這種混合物要在大概750℃左右的溫度熔化或溶解已達(dá)到好的效果,。鹽被用作與熔體精細(xì)混合,，鹽也可以被用作覆蓋溶劑。不同的覆蓋溶劑用作不同的目的,；干燥氧化的熔渣以便簡單的除掉,；提供降低氧化作用和氫氣獲得量的阻礙；減少氫元素的燒化,，如鈉,，鎂；或者通過緩慢釋放來維持組分,，如鈉,。釋放鈉的元素在AI-Mg合金中不被使用，因?yàn)殁c對(duì)性質(zhì)有害,，嘗試用氯化鎂代替,。我們必須清楚，這些溶劑中含有結(jié)晶水,，并將吸收與空氣中的濕氣,，因此他們要在干燥的條件下儲(chǔ)藏否則要在使用以前用250℃的溫度預(yù)加熱。含有氯化物的溶劑具有侵襲爐子襯里的缺點(diǎn),。它們同樣也腐蝕坩堝材料,，腐蝕碳化硅的程度要比黏土石墨的程度低。

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