鋁合金鑄造生產(chǎn)后,，電壓進入到較為有序而緩慢的上升階段,。表明無孔層在不斷的被分解掉發(fā)生多孔層的同時，新的無孔層又在生長,，也就是說氧化膜中無孔層的轉(zhuǎn)變成效率與分解掉速率基礎上實現(xiàn)了平衡,，故無孔層的薄厚不容易再上升,，電壓變化也較小。

 但是,，這時在孔的底部氧化膜的轉(zhuǎn)變成與分解掉并不能停止,，他們?nèi)栽诓粩嚅_展著，結(jié)果使孔的底部逐漸向金屬基體內(nèi)部移動,。伴隨著鋁合金鑄造生產(chǎn)的氧化用時提升,，孔穴加重發(fā)生孔隙度，擁有孔隙度的膜層逐漸增厚,。當膜轉(zhuǎn)變成速率和分解掉速率實現(xiàn)動態(tài)平衡時,，即使再提升氧化用時，氧化膜的薄厚也不會再上升,，這時應停止陽極氧化階段,。

 接通電首要的的幾秒到幾十秒用時內(nèi)，鋁表面直接轉(zhuǎn)變成一層一層緊密的,、擁有高絕緣性能的氧化膜,，薄厚約0.01～0.1μm，為一層一層不斷的,、無孔的薄膜層,，將之稱為無孔層或阻擋層，此膜的發(fā)生發(fā)生了電流的經(jīng)過和膜層的再次變厚。

 鋁合金鑄造生產(chǎn)中的氧化工藝筒易,，液體有序,，操作過程便利，允許雜物成分范圍較寬,，電量消耗少,，降低成本，且?guī)缀蹩梢暂^為適用鋁及各種鋁合金的加工,，因此在國內(nèi)已得到了廣泛的應用

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